- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
Détention brevets de la classe G03F 7/075
Brevets de cette classe: 1404
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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---|---|---|
FUJIFILM Corporation | 27102 |
130 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
128 |
Toray Industries, Inc. | 6652 |
92 |
Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1822 |
58 |
Merck Patent GmbH | 5909 |
47 |
JSR Corporation | 2476 |
47 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
33 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
30 |
Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | 1416 |
24 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 6671 |
22 |
LG Chem, Ltd. | 17205 |
21 |
Asahi Glass Company, Limited | 2985 |
21 |
Cheil Industries Inc. | 944 |
20 |
Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
20 |
Nissan Chemical Corporation | 1725 |
19 |
Central Glass Company, Limited | 1244 |
17 |
Carbon, Inc. | 385 |
17 |
Kaneka Corporation | 4445 |
16 |
Dow Corning Corporation | 1072 |
16 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
15 |
Autres propriétaires | 611 |